BRN: 832876

前言: 2025年, IC製程已可試量產2nm(奈米)! IC晶片電路製作方法，主要是微影製程，2024年, IC製程已可量產3nm(奈米)! 時序進入2025年, IC製程已可試量產2nm(奈米)! 奈米壓印微影(NIL, Nano-imprint lithography process)製程是Canon最近幾年提出的，2023年Canon宣稱可以做到7nm(奈米)，2024年Canon又宣稱可以做到5 nm(奈米)! 因此，本書將介紹7奈米IC晶片電路製作方法—形成半絕對尺寸硬罩幕的方法(ROC patent, 140552, 8/21/2001): 半導體微影製程: 硬...